اثر مدت زمان اکسیداسیون حرارتی لایه‏های نازک Zn فلزی بر روی مورفولوژی و خصوصیات ساختاری نانوسیم‏های اکسید روی

نوع مقاله: مقاله پژوهشی

چکیده

در این پژوهش نانوسیم‏های اکسید روی با خواص ساختاری بالا از طریق اکسیداسیون حرارتی لایه‏های نازک Zn فلزی رشد داده شدند. فیلم‏های Zn با ضخامت 250 نانومتر با استفاده از تکنیک تبخیر در خلاء بر روی زیرلایه شیشه لایه نشانی گردیدند. جهت رشد نانوسیم‏های اکسید روی، فیلم‏های Zn لایه‏نشانی شده به مدت 30 دقیقه، 1ساعت و 3 ساعت در دمای ˚C600 در محیط هوا با استفاده از یک کوره افقی اکسید شدند. مورفولوژی سطح نمونه‏ها با استفاده از تصاویر میکروسکوپ الکترونی روبشی مشخص گردید و نتایج نشان داد که با افزایش مدت زمان فرآیند اکسیداسیون، میزان شکل گیری و طول نانوسیم‏های اکسید روی افزایش می‏یابد. در طیف EDX نمونه‏ها به جزء اکسیژن و روی عنصر دیگری یافت نشد که نشان دهنده خلوص بالای نانوسیم‏های اکسید روی رشد یافته است. نتایج حاصل از آنالیز XRD همچنین نشان داد نانوسیم‏های اکسید روی دارای ساختار ورتسایت با پیک ترجیحی قوی (002) می‏باشد.

کلیدواژه‌ها