TY - JOUR ID - 5314 TI - اثر مدت زمان اکسیداسیون حرارتی لایه‏های نازک Zn فلزی بر روی مورفولوژی و خصوصیات ساختاری نانوسیم‏های اکسید روی JO - نشریه علوم و مهندسی سطح JA - ISSST LA - fa SN - 2008-6717 Y1 - 2013 PY - 2013 VL - 9 IS - 17 SP - 59 EP - 63 KW - اکسید روی KW - نانوسیم KW - اکسیداسیون حرارتی KW - تکنیک تبخیر در خلاء KW - خواص ساختاری DO - N2 - در این پژوهش نانوسیم‏های اکسید روی با خواص ساختاری بالا از طریق اکسیداسیون حرارتی لایه‏های نازک Zn فلزی رشد داده شدند. فیلم‏های Zn با ضخامت 250 نانومتر با استفاده از تکنیک تبخیر در خلاء بر روی زیرلایه شیشه لایه نشانی گردیدند. جهت رشد نانوسیم‏های اکسید روی، فیلم‏های Zn لایه‏نشانی شده به مدت 30 دقیقه، 1ساعت و 3 ساعت در دمای ˚C600 در محیط هوا با استفاده از یک کوره افقی اکسید شدند. مورفولوژی سطح نمونه‏ها با استفاده از تصاویر میکروسکوپ الکترونی روبشی مشخص گردید و نتایج نشان داد که با افزایش مدت زمان فرآیند اکسیداسیون، میزان شکل گیری و طول نانوسیم‏های اکسید روی افزایش می‏یابد. در طیف EDX نمونه‏ها به جزء اکسیژن و روی عنصر دیگری یافت نشد که نشان دهنده خلوص بالای نانوسیم‏های اکسید روی رشد یافته است. نتایج حاصل از آنالیز XRD همچنین نشان داد نانوسیم‏های اکسید روی دارای ساختار ورتسایت با پیک ترجیحی قوی (002) می‏باشد. UR - http://www.surfacejournal.ir/article_5314.html L1 - http://www.surfacejournal.ir/article_5314_185fc18774a2f95fb980bb4eb2caae0d.pdf ER -