[1] Y.C. Tsai, J. Shieh.Appl. Surf. Sci. 479 (2019) 619-625.
[2] مظفرینیا رضا، ارزیابی ضریب شکست نور در لایههای نازک سیلیکا، علوم و مهندسی سطح، 5(1388)48-41
[3] بهاری علی و فدایی سیده مژده، ویژگی های نانو ساختار نقره/اکسید سیلیکون، علوم و مهندسی سطح 8(1388)47-41.
[4] V. Hody-Le Caër, E. De Chambrier, S. Mertin, M. Joly, M. Schaer, J.L. Scartezzini, A. Schüler, Energ. 53 (2013) 27-34.
[5] M.R. Holmes, L. Shuo, J. Keeley, M. Jenkins, K. Leake, H. Schmidt, A.R. Hawkins,
IEEE Photon. Technol. Lett. 23 (2011) 1466–1468.
[6] P.A. Premkumar, S.A. Starostin, M. Creatore, H. de Vries, R.M.J. Paffen, P.M.
Koenraad, M.C.M. van de Sanden, Plasma Process. Polym. 7 (2010) 635–639.
[7] J. Kim, S. Jung, K. Jang, H. Park, J. Cho, W. Lee, D. Gong, B. Choi, Y. Kim, J. Park, K.
Kim, J. Yi, Electrochem. Soc. 157 (2010) 182–185.
[8] M. Shahpanah, S. Mehrabian, M. Abbasi-Firouzjah, B. Shokri, Surface and Coatings Technology 358 (2019) 91–97.
[9] M. Abbasi-Firouzjah, B. Shokri, (2020) Thin Solid Films, 698, 137857.
[10] Marzieh Abbasi-Firouzjah, Babak Shokri,
Thin Solid Films, 577, 2015, 67-73.
[11] M. Abbasi-Firouzjah, S. I. Hosseini, M. Shariat, B. Shokri, J. Non-Cryst. Solids 368 (2013) 86-92.
[12] عباسی فیروزجاه مرضیه، محمودی هادی، شکری بابک، بررسی اثر شار گاز استیلن در ترکیب پلاسما بر خواص ساختاری و اپتیکی لایه نازک آلائیده با کربن، علوم و مهندسی سطح، 43(1399)32-21.
[13] عباسی فیروزجاه مرضیه، شکری بابک، بررسی فرآیند پلیمریزاسیون پلاسمایی برای تولید لایه سیلیکاتی متخلخل، علوم و مهندسی سطح، 45(1399)64-51.
[14] Jain, M., Ramos-Serrano, J. R., Dutt, A., & Matsumoto, Y. (2020, November). Photoluminescence properties of thin-film SiO x C y deposited by O-Cat CVD technique using MMS and TEOS. In 2020 17th International Conference on Electrical Engineering, Computing Science and Automatic Control (CCE) (pp. 1-6). IEEE.
[15]Podlucký, Ľ., Vincze, A., Kováčová, S., Chlpík, J., Kováč, J., & Uherek, F. (2021). Optimization of Fabrication Process for SiON/SiO x Films Applicable as Optical Waveguides. Coatings, 11(5), 574.
[16] M.T. Kim, Thin Solid Films 360 (2000) 60–68.
[17] K. Takizawa, Y.Mori, N.Miyatake, K.Murata, Thin Solid Films 516 (2008) 3605–3609.
[18] L. Zhang, F. Yao, G. Zhao, Y. Hao, Q. Sun, (2014) Plasma Science and Technology, 16(3), 203.
[19] H.G. Tompkins, J.N. Hilfiker, Spectroscopic Ellipsometry: Practical Application to Thin Film Characterization, Momentum Press, New York, 2015.
[20] P. Uznanski, B. Glebocki, A. Walkiewicz-Pietrzykowska, J. Zakrzewska, A.M. Wrobel, J. Balcerzak, J. Tyczkowski, Surf. Coat. Technol. 350 (2018)
