تعیین پارامترهای مناسب فرآیند کندوپاش فلز مولیبدنیوم و بررسی اثر لایه‌ای نازک از آن، برروی گسیل الکترون‌ها از آرایه‌ی گسیل میدان متشکل از نانونوک-های سیلیکانی
نوع مقاله : مقاله پژوهشی
چکیده
بررسی برروی پارامترهای فشار عملیاتی و توان فرایند کندوپاش فلز مولیبدنیوم برروی مقاومت لایه‌ی نازک ایجاد شده برروی زیرلایه‌ی شیشه انجام گرفته و مقدار مناسب پارامترهای لایه نشانی تعیین شده اند. آرایه‌ی نانونوک‌های سیلیکانی از پیش ساخته شده طی فرایندی چند مرحله‌ای، در محیط خلا قرار داده شده است و به منظور کاهش تابع کار گسیل کننده‌ها، لایه‌ای از فلز مولیبدنیوم به روش کند و پاش و بر اساس پارامترهای تعیین شده در مرحله‌ی قبل بر روی نوک‌ها نشانده شده است. مشخصات هندسی گسیل کننده‌ها به کمک تصاویر میکروسکوپ الکترونی روبشی (SEM) قبل و بعد از لایه نشانی مولیبدنیوم ارائه شده است. نشان داده شده است که استفاده از پوشش مولیبدنیومی امکان مشاهده‌ی پدید‌ه‌ی گسیل میدان را در ولتاژهای کمتر از 1000 ولت و در فواصل بین آند و کاتد بالای 1 میکرومتر فراهم می آورد. منحنی جریان-ولتاژ گسیل الکترون‌ها در فشار کمتر از Torr7-10×3 اندازه‌گیری و رسم شده است.
. (1392). تعیین پارامترهای مناسب فرآیند کندوپاش فلز مولیبدنیوم و بررسی اثر لایه‌ای نازک از آن، برروی گسیل الکترون‌ها از آرایه‌ی گسیل میدان متشکل از نانونوک-های سیلیکانی. نشریه علوم و مهندسی سطح، 9(17)، 53–58.
MLA
. "تعیین پارامترهای مناسب فرآیند کندوپاش فلز مولیبدنیوم و بررسی اثر لایه‌ای نازک از آن، برروی گسیل الکترون‌ها از آرایه‌ی گسیل میدان متشکل از نانونوک-های سیلیکانی"، نشریه علوم و مهندسی سطح، 9، 17، 1392، 53–58.
HARVARD
. (1392). 'تعیین پارامترهای مناسب فرآیند کندوپاش فلز مولیبدنیوم و بررسی اثر لایه‌ای نازک از آن، برروی گسیل الکترون‌ها از آرایه‌ی گسیل میدان متشکل از نانونوک-های سیلیکانی'، نشریه علوم و مهندسی سطح، 9(17), pp. 53–58.
CHICAGO
، "تعیین پارامترهای مناسب فرآیند کندوپاش فلز مولیبدنیوم و بررسی اثر لایه‌ای نازک از آن، برروی گسیل الکترون‌ها از آرایه‌ی گسیل میدان متشکل از نانونوک-های سیلیکانی." نشریه علوم و مهندسی سطح، 9 17 (1392): 53–58,
VANCOUVER
. تعیین پارامترهای مناسب فرآیند کندوپاش فلز مولیبدنیوم و بررسی اثر لایه‌ای نازک از آن، برروی گسیل الکترون‌ها از آرایه‌ی گسیل میدان متشکل از نانونوک-های سیلیکانی. نشریه سطح. 1392;9(17):53–58.
