TY - JOUR ID - 240106 TI - بررسی فرآیند پلیمریزاسیون پلاسمایی برای تولید لایه سیلیکاتی متخلخل JO - نشریه علوم و مهندسی سطح JA - ISSST LA - fa SN - 2008-6717 AU - عباسی فیروزجاه, مرضیه AU - شکری, بابک AD - گروه علوم مهندسی، دانشکده مهندسی، دانشگاه فناوری های نوین سبزوار، سبزوار، ایران AD - پژوهشکده لیزر و پلاسما، دانشگاه شهیدبهشتی تهران Y1 - 2020 PY - 2020 VL - 16 IS - 45 SP - 51 EP - 64 KW - لایه سیلیکای فلوئوردار KW - پلیمریزاسیون پلاسمایی KW - PECVD KW - تخلخل‌های ساختاری KW - ضریب شکست DO - N2 - در این تحقیق، لایه سیلیکاتی فلوئوردار به روش پلیمریزاسیون پلاسمایی و با استفاده از دستگاه پلاسمایی فرکانس رادیویی تولید شده است. به منظور کاهش ضریب شکست لایه‌ها، تخلخل‌های ساختاری در لایه ایجاد شد. میزان ناخالصی، ضریب جذب اپتیکی، زبری سطح و میزان چگالی جریان تراوشی و آستانه میدان شکست لایه‌ها مورد بررسی قرار گرفتند. به منظور بررسی فرآیند پلیمریزاسیون پلاسمایی، نوع گاز فلوئوردار و فشار کاری و همچنین قرار دادن پایه برای بسترهای سیلیکونی مورد آزمایش قرار گرفتند. حالت‌های پیوند شیمیایی لایه‌ها و ریخت‌شناسی سطح لایه‌ها به ترتیب توسط طیف‎سنج تبدیل فوریه مادون قرمز و میکروسکوپ نیروی اتمی مورد بررسی قرار گرفت. علاوه بر این، مطالعه ضریب شکست و ضریب جذب لایه‌ها نیز توسط دستگاه بیضی‌سنجی طیفی انجام گرفت. نتایج نشان داد لایه سیلیکاتی فلوئوردار با خلوص بالا و تخلخل‌های ساختاری، دارای ضریب شکست فوق کم (1.17 و 1.09) و ثابت خاموشی کمتر از 4-10 است و افزایش فشار و همچنین قرار دادن پایه برای بستر‌ها موجب افزایش ناخالصی‌های آلی به ویژه پیوندهای کربنی و به موجب آن از بین رفتن تخلخل‌های ساختاری لایه شد که در مجموع منجر به افزایش ضریب شکست (1.39 و 1.37) و ثابت خاموشی (0.004 و 0.0005) لایه‌ها شده‌ است. UR - http://www.surfacejournal.ir/article_240106.html L1 - http://www.surfacejournal.ir/article_240106_2565145fa853631cc80c215725c8370f.pdf ER -