@article { author = {}, title = {تاثیر آماده‌سازی سطحی پوشش‌های پاشش حرارتی CoNiCrAlY بر رفتار اکسیداسیون این پوشش‌ها}, journal = {نشریه علوم و مهندسی سطح}, volume = {11}, number = {25}, pages = {49-58}, year = {2015}, publisher = {انجمن علوم و تکنولوژی سطح ایران}, issn = {2008-6717}, eissn = {}, doi = {}, abstract = {در این پژوهش تاثیر فرآیندهای آماده‌سازی سطحی پوشش‌های CoNiCrAlY بر رفتار اکسیداسیون این پوشش‌ها مورد بررسی قرار گرفته است. بدین منظور در ابتدا پوشش‌  CoNiCrAlYبه روش پاشش حرارتی HVOF بر روی زیرلایه اینکونل 738 پوشش‌دهی شدند. به منظور بررسی تاثیر فرآیند آماده‌سازی سطحی و حذف لایه اکسیدی تشکیل شده بر سطح پوشش در حین فرآیند پاشش حرارتی، بر رفتار اکسیداسیون این پوشش‌ها، سطح یکی از نمونه‌ها با سنباده 40 پولیش شد. سپس نمونه‌ها در دمای 1050 درجه سانتیگراد به مدت 100 ساعت تحت آزمون اکسیداسیون قرار گرفتند. برای ارزیابی ریزساختاری، فازی و شرایط سطحی از میکروسکوپ الکترونی روبشی، آزمایش پراش پرتو ایکس و زبری سنج استفاده شد. نتایج نشان داد پولیش‌کاری سطحی پوشش و حذف لایه اکسیدی تشکیل شده بر سطح پوشش در حین پاشش حرارتی، منجر به بهبود رفتار اکسیداسیون پوشش CoNiCrAlY شده است. لایه اکسیدی تشکیل شده بر سطح این پوشش لایه متراکمی از α-Al2O3 که از اکسیداسیون بیشتر پوشش جلوگیری کرده است و ثابت اکسیداسیون در این پوشش را به (10-10 gr2 cm-4 h-1)13-10×1/0 رسانده است که نسبت به پوشش بدون آماده‌سازی سطحی در حدود 16 برابر کمتر است. بررسی مورفولوژی سطحی لایه اکسیدی تشکیل شده بر سطح پوشش‌ها نشان داد که لایه اکسیدی تشکیل شده بر سطح نمونه پولیش‌شده، فازهای سوزنی شکل α-Al2O3 هستند و فازهای تشکیل شده بر سطح نمونه پولیش نشده فازهای گلوله‌ای شکل اسپینل، NiO و CoO می‌باشند.}, keywords = {پوشش سد حرارتی,اکسیداسیون,HVOF}, url = {http://www.surfacejournal.ir/article_15842.html}, eprint = {http://www.surfacejournal.ir/article_15842_5c7cd8c2ffc7ca8b0338e3665896eb34.pdf} }