در این کار تجربی لایههای نازک اکسید ایندیم آلاییده با اکسید قلع (ITO) با ترکیبهای مختلفی از 60 تا wt%95 اکسید ایندیم و 40 تا wt%5 اکسید قلع با استفاده از روش تبخیر با باریکه الکترونی بر روی زیرلایههای شیشهای نهشته شدند. لایهها پس از نهشت، به مدت 3 ساعت در هوا در دمای Cْ450 تحت عملیات حرارتی قرار گرفتند. تاثیر غلظت آلاینده اکسید قلع با تغییر غلظت آن از 5 تا wt%40 بر روی خواص ساختاری و اپتیکی این لایهها بررسی و مشاهده شد که با افزایش غلظت آلاینده تا wt%20، گاف باندی و اندازه دانهها افزایش مییابد. بیشترین گاف انرژی و بیشترین اندازه دانه به ترتیب برابر eV71/3 و nm23 در لایههای با wt%20 اکسید قلع برآورد گردید.